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?樓雄文Angew:表面暴露Ni單原子用于高效電催化析氧

本文報道一種簡便的化學氣相沉積策略,用于合成Ni單原子裝飾的空心S/N摻雜足球狀碳球(NiSAs@S/NFCS)。

南洋理工大學樓雄文等人報道一種簡便的化學氣相沉積策略,用于合成Ni單原子裝飾的空心S/N摻雜足球狀碳球(NiSAs@S/NFCS)。具體來說,CdS@3-氨基苯酚/甲醛被碳化成S/N-FCS。氣體遷移的Ni物種同時錨定在S/N-FCS表面,產生NiSAs@S/NFCS。所獲得的催化劑在堿性析氧反應(OER)中表現出優異的性能,10mAcm-2時過電位僅為249mV,Tafel斜率為56.5mVdec-1,長達166h超長穩定性。
?樓雄文Angew:表面暴露Ni單原子用于高效電催化析氧
DFT計算NiSAs@S/N-FCS催化劑中摻雜S原子在促進OER性能中的作用。S原子可以在石墨烯捕獲的NiN4位點(表示為G-NiN4)周圍的扶手椅(AC)或之字形(ZZ)位點上選擇性地修飾。對于ACG-Ni6N4-SC,OOH*解離過程是速率決定步驟(RDS),需要克服2.00eV的最高反應能壘然而,對于G-NiN4、ZZG-NiN4-CS、ZZG-NiN4-SC、ACG-NiN4-CS和ACG-NiN4-SC,*O中間體的形成是RDS,需要克服2.19、1.95、1.93、1.91和1.81eV的能壘。
此外,考慮石墨烯基面上S原子功能化的G-NiN4模型。最穩定的G-NiN4-S1模型需要2.71eV的RDS能壘才能形成*OOH中間體,明顯不如在邊緣改性的催化劑。這些發現表明,由于RDS能壘最低,ACG-NiN4-SC有利于OER的熱力學過程。
?樓雄文Angew:表面暴露Ni單原子用于高效電催化析氧
此外,模擬的Barde電荷表明AC邊緣模型(ACG-NiN4-CS和ACG-NiN4-SC)比ZZ邊緣模型(ZZG-NiN4-CandZZG-NiN4-SC)和無SG-NiN4模型具有更多的正電荷ACG-NiN4-SC模型中的Ni原子具有+0.858e的正電荷,大于ACG-NiN4-CS的正電荷(+0.851e)。
這些發現表明,Ni位點的正電荷越多,可以加強中間體的吸附,從而促進OER過程進一步對ACG-NiN4-SC、ZZG-NiN4-SC和G-NiN4中單Ni位點上的*O中間體進行電荷密度差異分析。ACG-NiN4-SC模型的頂視圖和側視圖顯示出更大的從Ni到O原子的電荷轉移(0.595e),大于ZZG-NiN4-SC(0.574e)和G-NiN4(0.569e),表明Ni和O原子之間的強電子相互作用。
YafeiZhao,XueFengLu etal. Surface-Exposed Single-Ni Atoms with Potential-Driven Dynamic Behaviors for Highly Efficient Electrocatalytic Oxygen Evolution. Angew.Chem.Int.Ed.2022, e202212542
https://doi.org/10.1002/anie.202212542

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