湖南大學尹雙鳳和陳浪等人報道Fe單原子有效地固定在WO2.72?x納米線的表面。單個Fe原子和WO2.72?x之間的電子相互作用導致d帶中心向費米能級移動,從而增強N2與催化劑表面的鍵合。差分電荷密度和電子分布研究表明,從Fe-SA/WO2.72?x到吸附的N2的電子轉移增強,表明Fe單原子是N2活化的活性中心。得益于電子相互作用,優化后的催化劑在光催化N2還原過程中的NH4+生成率為186.5μmolg-1h-1。通過在WO2.72(010)的兩層1×1切片上構建原子模型,使用密度泛函理論(DFT)模擬用于研究Fe單原子對WO2.72?x納米線的影響。對于Fe-SA/WO2.72?x,W的PDOS明顯與Fe的PDOS重疊,表明W和Fe原子的強相互作用。此外,由于WO2.72?x表面存在Fe單原子,在費米能級附近產生雜質能級,有利于光生電子激發到導帶,從而提高材料的光吸收能力。隨著Fe單原子的修飾,形成了一個新的d帶中心。計算結果表明,改性導致WO2.72?x材料的d帶中心從-2.58eV移動到-1.67eV,導致費米能級以上的反鍵態增加,從而增強N2的吸附。此外,研究發現WO2.72、WO2.72?x和Fe-SA/WO2.72?x上的N2吸附位點不同,吸附能為0.167、-0.515和-0.878eV,表明N2在Fe-SA/WO2.72?x上的吸附是最有利的。Fe-SA/WO2.72?x與N2吸附的不同電荷密度清楚地表明N2分子從WO2.72?x獲得電子并被活化。此外,電子分布表明,當Fe單原子錨定在WO2.72?x表面時,電子在Fe-O鍵上發生離域。這表示高共價性有利于界面電子的狀態轉變和電荷轉移的加速。以上結果表明,在Fe-SA/WO2.72?x表面和吸附的N2之間形成了一個電子轉移通道,使Fe單原子成為N2活化的活性位點。DFT進一步計算NRR的吉布斯自由能圖。對于原始的WO2.72,最有利的方式是交替加氫方式,然而,氧空位和Fe單原子的引入使得混合機理成為可能。通常,吸附二氮的第一個質子化步驟(即N2*→NNH*)被認為是NRR中的限速步驟。顯然,由于N2的惰性和穩定性,在原始WO2.72上能壘為1.67eV的N2*氫化為NNH*確實是限速步驟。然而,由于Fe-O-W位點在Fe-SA/WO2.72?x上的電子相互作用效應,吸附的N2(*N2)的化學鍵明顯減弱。加氫的能壘顯著降低,*N2→*N2H轉變的能壘降低到0.41eV。Biao Hu, Bing-Hao Wang et al. Electronic Modulation of the Interaction between Fe Single Atoms and WO2.72?x for Photocatalytic N2 Reduction. ACS Catal. 2022, 12, 11860?11869https://doi.org/10.1021/acscatal.2c03367