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?延世大學(xué)Small:Nb-CMO4@CxSyNC電極助力FQSCs

10000次充/放電循環(huán)后保持98.7%容量

?延世大學(xué)Small:Nb-CMO4@CxSyNC電極助力FQSCs
高能量密度電池類材料作為超級電容器電極引起了廣泛關(guān)注,但是它們緩慢的電荷動力學(xué)限制了氧化還原活性位點的利用,導(dǎo)致電化學(xué)性能較差。
基于此,韓國延世大學(xué)Seong Chan Jun(通訊作者)等人報道了由N-S共摻雜的金屬有機(jī)框架衍生的碳@CoxSy微花瓣的獨特的核-殼結(jié)構(gòu),修飾有鈮-鉬酸鈷納米片(Nb-CMO4@CxSyNC)。
結(jié)果表明,優(yōu)化后的電極在電密度為1 A g-1時具有276.3 mAh g-1的高比容量,在10000次充/放電循環(huán)后仍能保持98.7%的容量。
具有逐層沉積的還原氧化石墨烯/Ti3C2TX負(fù)極的柔性準(zhǔn)固態(tài)SC(FQSCs),比能量為75.5 Wh kg-1(體積能量為1.58 mWh cm-3),比功率為1.875 kWh kg-1,在10000次充/放電循環(huán)中,容量保留率為96.2%。
?延世大學(xué)Small:Nb-CMO4@CxSyNC電極助力FQSCs
通過DFT計算,分析了Nb摻雜對CoMoO4和Co3S4電化學(xué)性能的影響。CoMoO4和Co3S4平板分別有(001)和(110)自由表面,Nb摻雜是通過在每個平板中用一個Nb原子替換一個表面Mo或Co原子來實現(xiàn)。
OH?在未摻雜和摻雜Nb的CoMoO4和Co3S4上的吸附構(gòu)型表明,Nb的摻雜有利于OH?的吸附,意味著氧化還原反應(yīng)的加速。
CoMoO4和Nb-CoMoO4的總態(tài)密度(TDOS)表明,Nb-CoMoO4在上自旋通道中帶隙比CoMoO4更窄,而在下自旋通道中費米能級附近的電子態(tài)更多。
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Nb-Co3S4在費米能級附近的電子態(tài)比Co3S4多,而TDOS表明,Nb的摻雜改善了材料的導(dǎo)電性,從而提高了材料的電化學(xué)性能。
原始和摻雜Nb的CoMoO4和Co3S4之間的電荷密度差異顯示,摻雜Nb原子附近的電荷消耗和周圍原子的電荷積累。
Nb摻雜的電荷再分配,增強(qiáng)電荷轉(zhuǎn)移促進(jìn)氧化還原反應(yīng)。對比純Co3S4(-2.3275 eV),Co3S4@NSC(-2.4012 eV)的吸附能在量級上略有增加。總之,DFT結(jié)果表明Nb的摻雜提高了CoMoO4和Co3S4的電化學(xué)性能。
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Reconfiguring the Electronic Structure of Heteroatom Doped Carbon Supported Bimetallic Oxide@Metal Sulfide Core-Shell Heterostructure via In Situ Nb Incorporation toward Extrinsic Pseudocapacitor. Small, 2022, DOI: 10.1002/smll.202205491.
https://doi.org/10.1002/smll.202205491.

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