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AFM：Fe0.1Ni0.9O薄膜保護的Mo:BiVO4光電極用于高效穩定光電化學OER

光電化學分解水是一種具有優異前景的制氫方法。然而催化劑的光腐蝕作用會導致其失去活性，這限制了其實際應用。

德國慕尼黑大學Thomas Bein和弗萊堡大學Anna Fischer等報道了一種 Fe_0.1Ni_0.9O薄膜保護的Mo:BiVO₄光電極，能夠高效穩定進行光電化學水分解。

作者利用基于ALD的保護策略，制備出被超薄、共形和氧化穩定的金屬氧化物薄膜保護的Mo:BiVO₄光電極。

該光電極能夠在4.7 mA cm^-2的光電流密度下連續反應16 h，而裸的Mo:BiVO₄光電極在前兩個小時達到最大性能(光電流密度為1.9 mA cm^-2)，超過16 h后，光電極的性能持續下降，直至光電流密度降為1.2 mA cm^-2。

結果表明，Fe_0.1Ni_0.9O保護了Mo:BiVO₄光電極，薄的Fe_0.1Ni_0.9O又可以加速電荷在電極-電解質的轉移，從而增加了電極上的光電流。另外，Fe_0.1Ni_0.9O的應用導致更快的瞬態電流響應，表明該催化劑具有快速和有效的空穴轉移能力。

Ultra-thin protective coatings for sustained photoelectrochemical water oxidation with Mo:BiVO₄. Advanced Functional Materials, 2021. DOI: 10.1002/adfm.202011210

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