半導體的抗光腐蝕穩定性已成為光電化學水分解的重要目標之一。近日,內蒙古大學王蕾教授和蘇毅國教授、河南科技大學王趙武講師(共同通訊作者)等人報道了他們對WO3/BiVO4異質結、W摻雜和氧空位形成的三種混合增強策略的研究,以便在制備BiVO4的過程中結合到這種納米結構中,從而改善光電化學(PEC)性能。研究發現,WO3層不僅促進了電子轉移,而且它被用作W摻雜的擴散源,從而在塊體材料上產生氧空位(Ov)。此外,通過引入不同的W摻雜剖面,即底部、中間和頂部,所有電極都表現出光激活特性,光電流得到改善,起始電位出現負偏移。其中,底部W摻雜使BiVO4電極上的電荷分離效率得到了最顯著的提高,在前、后1個太陽光照射下,在1.23 VRHE處產生了接近4.4 mA cm-2的光電流密度。更重要的是,無助催化劑的W: BiVO4-Ov光陽極在1.0 VRHE下的25 h試驗中呈現出良好的穩定性。通過實驗和理論計算結合,證明了多種協作策略有助于設計高效穩定的太陽能轉換光電極。Tungsten Induced Defects Control on BiVO4 Photoanodes for Enhanced Solar Water Splitting Performance and Photocorrosion Resistance. Appl. Catal. B Environ., 2021, DOI: 10.1016/j.apcatb.2021.120610.https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2021.120610.