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Appl. Catal. B.：電荷局部優化反應物在KCu7S4/CuO表面上的吸附，實現選擇性CO2電還原

調節電催化劑的電子結構以優化反應物在催化劑表面的吸附是提高電催化活性的關鍵策略。

華中師范大學原弘教授和歐陽述昕教授、昆明理工大學Jinsong Wang（共同通訊作者）等人報道了一種新型的KCu₇S4/CuO界面結構，通過誘導局部電荷區的形成來優化界面活性中間體的吸附性能，從而促進CO₂的電還原。

在-0.9 V中等電位（相對于可逆氫電極）下，界面催化劑提供了更高的CO₂RR活性和甲酸鹽選擇性，其法拉第效率（FE）為71.0%，電流密度為7.56 mA cm^-2，同時具有良好的耐久性。

通過密度泛函理論（DFT）計算表明，CO₂RR活性和甲酸鹽選擇性的提高是因為初始階段CO₂*的吸附增強，關鍵中間體OCHO*的吸附增強，以及界面電荷重分布引起的局部正電荷區H*吸附減弱。

Charge localization to optimize reactant adsorption on KCu₇S₄/CuO interfacial structure toward selective CO₂ electroreduction. Appl. Catal. B Environ., 2021, DOI: 10.1016/j.apcatb.2021.120531.

https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2021.120531.

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