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上硅所/華東師大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生產二氫異喹啉和H2O2

上硅所/華東師大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生產二氫異喹啉和H2O2

光合作用是生產過氧化氫(H2O2)的最可持續和最有前景的方法之一,但光合作用存在載體利用率和H2O2產率低的問題。添加異丙醇或乙醇等質子供體可增加H2O2產量,但是將不可避免地提高成本,同時浪費空穴(h+)的氧化能力。

基于此,中科院上海硅酸鹽研究所施劍林院士和華東師范大學陳立松副教授(共同通訊作者)等人報道了將四氫異喹啉(THIQs)被用作獨特的質子供體,用于熱力學上可行的選擇性半脫氫反應,生成高價值的二氫異喹啉(DHIQs),同時在雙功能Zn3In2S6催化劑的光催化下,在一個光氧化反應中耦合并促進H2O2的生成。適當缺陷的Zn3In2S6在可見光(λ≥400nm)下分別以66.4和62.1mmol h-1 g-1的高速率提供了卓越且接近化學計量的H2O2和DHIQs共生產性能。

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由于O2在催化劑表面的吸附和活化是ORR和THIQs半脫氫反應的初始和最重要的步驟,作者利用密度泛函理論(DFT)計算了ORR作為光催化劑和活性中間體的吉布斯自由能。H2O2(ΔG4)的解吸是整個ORR(*+O2→*O2→*OOH→*HOOH→H2O2+*)中的一個速率決定步驟,因為其需要克服上坡的能量勢壘。假設缺陷Zn3In2S6上的In原子為活性位點,則ΔG4的能壘為+0.41 eV,遠低于樣品中Zn和S原子的能壘,而Zn3In2S6中In原子的能壘為+0.41 eV,表明S缺陷在熱力學上有利于In位點上的ORR。

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由于In位點的ΔG1值較低,O2更容易吸附在In位點,導致In位點是反應中心富集在熱力學上最可行的位置,因此In位點被認為是活性位點。作者還提出了Zn3In2S6催化THIQs半脫氫為DHIQs與光催化H2O2生成并行的表面反應機理:

1)在能量高于Zn3In2S6帶隙的入射光下,在Zn3In2S6中產生e和h+

2)CB中光生成的e會迅速活化并還原In原位吸附的氧生成·O2,而VB中的h+則轉移到光催化劑表面,從THIQs中的N原子上捕獲一個電子生成自由基陽離子中間體,然后被ROS攻擊形成α-H自由基陽離子中間體(b),再經過α-H去除形成自由基陰離子中間體(c);

3)在溶液中ROS和H+的同步作用下,由自由基陰離子中間體(c)進一步釋放一個質子(H+)和一個電子,得到DHIQs(d)。

上硅所/華東師大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生產二氫異喹啉和H2O2

Photoredox-promoted co-production of dihydroisoquinoline and H2O2 over defective Zn3In2S6. Adv. Mater., 2023, DOI: 10.1002/adma.202210110.

https://doi.org/10.1002/adma.202210110.

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