利用硅(Si)作為光電陰極一直被認(rèn)為是實現(xiàn)具有成本效益的光電化學(xué)(PEC)太陽能制氫的理想途徑。然而,電荷轉(zhuǎn)移效率和穩(wěn)定性之間的矛盾嚴(yán)重限制了Si基PEC器件在堿性介質(zhì)中的實際應(yīng)用。基于此,蘇州大學(xué)沈明榮教授和范榮磊教授(共同通訊作者)等人報道了一種簡便的熱電沉積工藝,用于集成梯度結(jié)構(gòu)的Ni3S2(G-Ni3SxO2-x)層,以同時保護(hù)和充當(dāng)堿性溶液中Si光電陰極的催化劑。作者在NiSO4?6H2O和硫脲組成的前驅(qū)體溶液中,利用簡單的熱電沉積方法在p-Si基底上制備了Ni3S2和G-Ni3SxO2-x納米結(jié)構(gòu)。根據(jù)SEM圖像顯示,一層空間互連的共形G-Ni3SxO2-x納米片在Si上呈近似垂直排列,厚度約為200 nm。研究發(fā)現(xiàn),G-Ni3SxO2-x層不僅為析氫反應(yīng)(HER)提供了豐富的活性位點(diǎn),而且還促進(jìn)了電荷分離和傳輸以及傳質(zhì)。通過實驗測試發(fā)現(xiàn),所制備的Si光電陰極在模擬AM 1.5 G光照射下表現(xiàn)出優(yōu)異的PEC活性,具有0.39 V (vs. RHE)的高起始電位,在0 V (vs. RHE)時光電流密度為-33.8 mA cm-2,優(yōu)于最先進(jìn)的基于p-Si的光電陰極。此外,G-Ni3SxO2-x層與Si基底具有良好的界面接觸,G-Ni3SxO2-x/Si界面處的應(yīng)力可忽略不計。在堿性介質(zhì)中,電流密度超過30 mA cm-2下可以提供超過120 h的良好耐久性。總之,這種梯度結(jié)構(gòu)策略為設(shè)計高效耐用的PEC器件鋪平了道路。Gradient-Structuring Manipulation in Ni3S2 Layer Boosts Solar Hydrogen Production of Si Photocathode in Alkaline Media. Adv. Energy Mater., 2021, DOI: 10.1002/aenm.202102865.https://doi.org/10.1002/aenm.202102865.