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喬世璋?Nature子刊:NiPS3 UNSs助力高活性光催化制氫

喬世璋?Nature子刊:NiPS3 UNSs助力高活性光催化制氫

開發(fā)出高性能、低成本的光催化劑是實(shí)現(xiàn)太陽(yáng)能驅(qū)動(dòng)大規(guī)模制取氫氣(H2)的關(guān)鍵。基于此,澳大利亞阿德萊德大學(xué)喬世璋教授(通訊作者)等人首次報(bào)道了一種心得液體剝離方法,并用其來制備NiPS3超薄納米片(ultrathin nanosheets, UNSs),作為一種多功能平臺(tái),可以極大地改善各種光催化劑(TiO2、CdS、In2ZnS4和C3N4)上的光驅(qū)動(dòng)制取氫氣性能。

喬世璋?Nature子刊:NiPS3 UNSs助力高活性光催化制氫

與單獨(dú)的CdS相比,NiPS3/CdS異質(zhì)結(jié)的光催化產(chǎn)生氫氣速率最大,為13600 μmol? h-1 g-1,最高的增強(qiáng)因子約為1667%。其中,光催化產(chǎn)生氫氣的增加源于促進(jìn)界面電荷分離/遷移的緊密電子耦合和豐富的原子級(jí)P/S邊緣位點(diǎn)以及NiPS3的活化S基位點(diǎn)促進(jìn)了析氫反應(yīng)(HER)。

這些發(fā)現(xiàn)得到了理論計(jì)算和表征的支持,包括原子分辨率AC-STEM、電子能量損失(EELS)光譜、基于同步加速器的X射線吸收近邊緣光譜(XANES)、原位XPS 、瞬態(tài)SPV光譜、超快TAS、瞬態(tài)PL光譜和光照射接觸電位差(CPD)測(cè)試。

喬世璋?Nature子刊:NiPS3 UNSs助力高活性光催化制氫

該研究進(jìn)一步證實(shí)了NiPS3 UNSs與其他半導(dǎo)體光催化劑(例如TiO2、In2ZnS4和C3N4)共同提高光催化H2產(chǎn)量的普遍性。該工作不僅展示了MPCx基團(tuán)在光催化領(lǐng)域的巨大潛力,而且通過融合先進(jìn)的表征和理論計(jì)算,為合理設(shè)計(jì)和制備高性能光催化劑鋪平了道路。

喬世璋?Nature子刊:NiPS3 UNSs助力高活性光催化制氫

NiPS3 ultrathin nanosheets as versatile platform advancing highly active photocatalytic H2 production. Nat. Commun., 2022, DOI: 10.1038/s41467-022-32256-6.

https://doi.org/10.1038/s41467-022-32256-6.

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