【MS論文精讀】Vacuum: 六方晶TM5Si3N的電子、彈性和熱性能研究 2023年11月5日 下午1:32 ? 計算 ? 閱讀 14 成果簡介 由于碳化物(如TM5Si3C-Nowotny相)增強了硅化物的斷裂性能,使其引起了人們的廣泛關注。然而,具有類似比例的氮化物TM5Si3N-Nowotny相卻很少報道。近日,昆明理工大學卜恒勇、段永華等人研究了TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)-Nowotny相。 計算方法 作者利用CASTEP模塊進行了第一性原理計算,并且為了描述價電子和離子核之間的相互作用,使用了超軟贗勢(USPP),以及將交換相關能由廣義梯度近似(GGA)中的Perdew-Burke-Ernzerhof(PBE)泛函來描述。 在經過收斂實驗之后,作者將截止能量確定為500?eV,并且使用Monkhorst-Pack方法將布里淵區(BZ)中的k點設置為7?×?7.?×?8。此外,在幾何優化過程中,作者采用了Broyden-Fletcher-Goldfarb-Shannon(BFGS)方法,并將總能量收斂標準設置為5?×?10?6?eV/atom,最大離子位移收斂標準設置為5?×?10?4??,最大應力收斂標準設置為0.02?GPa,以及最大離子Hellman-Feynman力收斂標準設置為0.01?eV/?。 結果與討論 圖1. TM5Si3N(TM=?V、Nb和Ta)的晶體結構? TM5Si3N(TM=?V、Nb和Ta)的晶體結構如圖1所示,其具有P63/mcm(No.193)的空間群。TM5Si3N的晶胞包含18個原子(包含兩個N原子、六個Si原子和十個TM原子)。 其中,兩個N原子位于(0,0,0.5)位,六個Si原子位于(0,x1,0.75)位,四個TM原子位于(2/3,1/3,0.5)位,剩下的六個TM原子則位于(0、x2、0.75)位。V5Si3N、Nb5Si3N和Ta5Si3N分別具有0.4093、0.4062和0.4037的x1值;而x2值分別為0.7722、0.7674和0.7618。 圖2. TM5Si3N(TM=?V、Nb和Ta)的聲子色散普 如圖2所示,作者使用聲子色散譜來表征其動態穩定性。其中聲學分支是每個TM5Si3N-Nowotny相的三條低頻曲線,而光學分支是剩余的曲線。此外,三個Nowotny相的聲子色散曲線都沒有顯示虛部,證明它們都是動態穩定的。 圖3. TM5Si3N(TM=?V、Nb和Ta)的TDOS和PDOS 如圖3所示,在TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)的TDOS和PDOS中,TM-d、Si-p和N-p態主要分布在費米能級(EF)附近。在?18-0?eV范圍內的TDOS主要來源于Si-s和N-s態,而0–24?eV以上的TDOS來自Si-p態。 此外,TM-d、Si-p和N-p態之間存在高度雜化,從而形成了TM-Si和TM-N化學鍵。在圖3中,費米能級處的TDOS值順序為Ta5Si3N?<?Nb5Si3N?<?V5Si3N。因此,Nowotny相穩定性順序為Ta5Si3N?<?Nb5Si3N?<?V5Si3N。 圖4. TM5Si3N(TM=?V、Nb和Ta)的差分電荷密度 如圖4所示,許多電子分布在TM原子和兩個Nowotny相鄰的N原子之間,表明形成了兩個非常強的TM-N鍵,并且它們沿著z軸排列成z字形鍵鏈。此外,幾個電子在TM原子和相鄰的Si原子之間積累,證明了TM-Si鍵的形成。 此外,Ta5Si3N中原子間的電子積累程度高于其他兩相中的原子間電子積累程度,而V5Si3N的原子間積累程度最小。這表明Ta5Si3N中的鍵具有最強的鍵強度,其次是Nb5Si3N中的鍵,V5Si3N的鍵強度最弱。 圖5. 體積模量、剪切模量和楊氏模量的三維表面分布 體積模量B、剪切模量G和楊氏模量E的三維(3D)表面分布如圖5所示,其中體積模量的3D圖并不完全是球形的,這表明這些TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)的體積模量是各向異性的。 此外,Nb5Si3N的體積模量3D圖與球體的偏差最大,而V5Si3N偏離最小,表明體積模量各向異性順序為Nb5Si3N?>?Ta5Si3N?>?V5Si3N。圖5中的剪切模量3D圖也不是完全球形的,這表明這些TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)Nowotny相也具有各向異性的剪切模量。其中Ta5Si3N的偏差最大,Nb5Si3N的偏差最小。因此,它們的剪切模量各向異性順序為Ta5Si3N?>?V5Si3N?>?Nb5Si3N。 圖5中的楊氏模量3D圖表明,這些TM5Si3N-Nowotny相的楊氏模量各向異性順序為Ta5Si3N?>?Nb5Si3N?>?V5Si3N。 圖6. 體積模量、剪切模量和楊氏模量的二維投影 如圖6所示,(0001)平面上的2D投影接近圓形,而(1000)平面的2D投影顯然是非圓形的,這表明這些TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)Nowotny相在B、G和E中是各向異性的。 此外,從彈性模量的2D投影中可以看出,Ta5Si3N在(1000)和(0001)平面之間具有最大的差異,證明Ta5Si3N具有最大的彈性各向異性。體積模量各向異性序列為Nb5Si3N?>?Ta5Si3N?>?V5Si3N,剪切模量各向異性序列為Ta5Si3N ?>?V5Si3N?>?Nb5Si3N,而楊氏模量各向異性序列為Ta5Si3N?>?Nb5Si3N?>?V5Si3N。 圖7. TM5Si3N(TM=?V、Nb和Ta)的最小熱導率3D表面分布和2D投影 TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)Nowotny相的3D表面分布和2D投影如圖7所示,這些TM5Si3N(TM?=?V、Nb和Ta)Nowotny相都具有偏離球體的3D表面分布,證明它們是各向異性的。其中V5Si3N與球體最相似,而Ta5Si3N則與球體偏離最大。因此,關于各向異性,最大值是Ta5Si3N,而最小值是V5Si3N。 結論與展望 計算得到的TM5Si3N-Nowotny相的聲子色散譜表明,它們在動力學是穩定的。由于TM-d態與Si-p和N-p態之間的強雜化作用,使TM5Si3N可以形成TM-Si和TM-N鍵。 所獲得的彈性各向異性指數、二維(2D)平面投影和三維(3D)表面分布表明,TM5Si3N的彈性模量是各向異性的,彈性各向異性序列為Ta5Si3N?>?Nb5Si3N?>?V5Si3N,并且最小熱導率順序為Ta5Si3N >?Nb5Si3N?>?V5Si3N。 文獻信息 Jiasheng Ji et.al Electronic, elastic and thermal properties of hexagonal TM5Si3N investigated by first-principles calculations Vacuum 2023 https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112232 原創文章,作者:計算搬磚工程師,如若轉載,請注明來源華算科技,注明出處:http://www.zzhhcy.com/index.php/2023/11/05/2d0c55d6a6/ 贊 (0) 0 生成海報 相關推薦 【機器學習論文精讀】ACS Omega:基于機器學習的NiCoFe氧化物催化劑析氧活性預測 2023年11月15日 【純計算】EES:具有氧電催化活性的電化學穩定二維材料 2024年2月3日 ACS ANM:DFT計算吸附結構、吸附能、電荷轉移、能帶和態密度等,研究氣體吸附特性! 2023年12月14日 23所過百億!134所“雙一流”高校決算出爐 2023年10月14日 【DFT+實驗】北理工白瑩EES:硬碳低電壓平臺區擴散助力高性能儲鈉 2024年1月30日 【MS計算解讀】Dmol3+CASTEP系統研究用于ORR的P區M-N-C催化劑 2023年12月20日