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?王心晨/陽燦/徐剛Angew:選擇性暴露BiVO4上特定晶面,用于超低濃度H2S光化學檢測

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氣體傳感作為一種重要的信息技術之一最近受到人們廣泛關注。與使用精密儀器或在復雜操作條件下使用的方法相比,化學電阻性氣體傳感器因其低成本、便攜性和不同可用的傳感材料而更為優越。金屬氧化物半導體(MOS)具有良好的穩定性和環保性能,長期以來一直被用作傳感材料。為了提高MOS材料在熱場作用下的靈敏度,人們采用了控制晶粒尺寸和提高工作溫度等幾種策略。將吸附在MOS上的氧在高操作溫度(100-450 °C)下電離,建立活性物種。實際上,大多數MOS材料在室溫下幾乎無反應,由于熱成熟、燒結或目標氣體分子中毒,其仍然存在一些敏感性降解的問題。
作為一種替代方法,MOS的內部光載流子可以被光激發,原則上可以在室溫下用于產生氣體傳感的活性氧。一些MOS材料在光照下對特定的氣體有響應,但人們很少在原子水平上解釋光驅動傳感過程的機理,導致對光生載流子與目標氣體分子相互作用過程的了解不足。因此,需要開發具有高靈敏度的高效光活化傳感材料并進行深入研究,對進一步改進MOS以提高氣敏性能具有參考意義,也為基礎研究和技術應用提供機會。
?王心晨/陽燦/徐剛Angew:選擇性暴露BiVO4上特定晶面,用于超低濃度H2S光化學檢測
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近日,福州大學王心晨陽燦中國科學院福建物構所徐剛等報道了一種光化學(BiVO4)傳感材料,該材料具有很大比例的(110)和(011)面和附加的(111)面,可用于可見光驅動的選擇性檢測超低濃度H2S。
與十面體BiVO4(Deca-BiVO4)相比,通過晶面工程,Octa-BiVO4具有更大的比例的光氧化表面,提高了各向異性光誘導載流子分離,使Octa-BiVO4的傳感性能優于Deca-BiVO4。同時,(111)面的暴露實現了Octa-BiVO4在V位點上對H2S的特征吸附,導致對H2S具有較高的選擇性,降低了目標氣體的檢測限。
?王心晨/陽燦/徐剛Angew:選擇性暴露BiVO4上特定晶面,用于超低濃度H2S光化學檢測
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同時,Octa-BiVO4在光照條件下的傳感性能優于加熱條件下,顯示了照明的優勢和獨特的作用。同時,Octa-BiVO4還顯示出優越的耐久性,因為H2S被氧化為元素硫(S)和二氧化硫(SO2),避免了硫中毒。
此外,結合實驗結果和密度泛函理論(DFT)計算,研究人員提出了可能的機理:1.光照使光生空穴(h+)和電子(e?)分別遷移到光氧化和光還原表面,與V原子結合的-OH基團與h+結合,轉化為?OH,導致電流增加;2.H2S首先吸附在(111)面的V原子上,隨后被?OH氧化成S和SO2,導致電子從H2S轉移到Octa-BiVO4,進一步提高電流;3.H2S檢測后,空氣中的O2分子吸附到V原子上,捕獲e?以恢復電流值,然后與水中的質子結合轉化為-OH,實現氣敏循環。
Crystal engineering of BiVO4 for photochemical sensing of H2S gas at ultra-low concentration. Angewandte Chemie International Edition, 2023. DOI: 10.1002/anie.202314891

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