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構(gòu)建具有強(qiáng)氧化還原能力、有效電荷分離和大反應(yīng)表面的光催化系統(tǒng)具有重要的科學(xué)和實(shí)際意義。在此，阿聯(lián)酋哈利法科技大學(xué)鄭聯(lián)喜（通訊作者）等人報(bào)道了一種邊緣連接的2D/2D Z-型系統(tǒng)，該系統(tǒng)結(jié)合了小面結(jié)和界面異質(zhì)結(jié)，以實(shí)現(xiàn)有效的長(zhǎng)程電荷分離和大的反應(yīng)性表面暴露。

通過Au促進(jìn)的光沉積方法在薄TiO₂納米片的邊緣位置選擇性生長(zhǎng)2D層狀MoS₂納米片制備了該異質(zhì)結(jié)。由于晶面結(jié)和界面異質(zhì)結(jié)的協(xié)同耦合確保了有效的電荷分離，以及層狀MoS₂和高度暴露的TiO₂晶面（001）分別提供了大量的、物理分離的反應(yīng)位點(diǎn)，人工Z-型異質(zhì)結(jié)在光降解試驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的光催化性能。

雖然注入兩個(gè)半導(dǎo)體之間的Au NCs 僅充當(dāng)介質(zhì)以促進(jìn)光生電子空穴在異質(zhì)界面處的快速遷移，以確保有效的Z-型電荷轉(zhuǎn)移，而且還充當(dāng)熱電子注入源以提高光催化性能，這種光催化劑系統(tǒng)對(duì)于具有多種未知污染物的光降解應(yīng)用極為有利。

此外，作者還利用原位輻照X射線光電子能譜和光降解測(cè)試，全面研究了異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的Z型電荷流動(dòng)方向以及電子和空穴的作用。該工作為設(shè)計(jì)高性能Z-型光催化系統(tǒng)提供了新的見解。

Coupling Long-Range Facet Junction and Interfacial Heterojunction via Edge-Selective Deposition for High-Performance Z-Scheme Photocatalyst. Adv. Sci., 2022, DOI: 10.1002/advs.202200346.

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鄭聯(lián)喜Adv. Sci.：構(gòu)建高性能Z-型光催化劑

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