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Materials Studio模擬鋰離子電池SEI膜形成過程,DFT+MD跨尺度模擬方法!

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DFT+MD跨尺度模擬方法

在鋰離子電池SEI膜形成過程中的應用
Materials Studio模擬鋰離子電池SEI膜形成過程,DFT+MD跨尺度模擬方法!

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背景

鋰離子電池SEI膜主要由電解液組分在電極表面發生化學反應的產物,反應物種類多、反應路徑和機理復雜、溶劑中特殊的環境以及具有一定的空間尺度,導致在原子層面去研究SEI形成的成果與機理有一定的挑戰性。

在原子層面上的仿真模擬主要有DFT方法和MD方法;其中DFT方法可以模擬精確的化學反應,獲得反應路徑和反應機理的信息,但是DFT模擬的尺度比較小,難以適用于復雜的體系;MD方法可以模擬更大空間尺度的模型結構,并且具有較高的效率,但是經典動力學無法表達體系中的化學反應。

把兩種方法結合會在模擬效率和精度上有重要的意義。特別對于復雜環境中形成SEI膜的過程。

No.1

MD獲取微觀結構>>>

DFT對微觀結構進行深入研究

在SEI膜中LiF具有更好的熱力學穩定性能,在電解液中添加含氟化合物,利用添加劑在電極表面的反應可以形成LiF,從而可以使得SEI膜性能更加穩定。

通過動力學的方法搭建溶劑、鋰鹽、含氟添加劑電解液體系,從體系密度與鋰離子電導率兩個角度判斷模型合理性,其中鋰離子電導率可以通過鋰離子的MSD參數獲取。

再利用該模型參數搭建正極、電解液、負極體系。為了研究不同過電位條件下添加劑在負極表面能否發生化學反應,分析了負極表面的主要成分,以及鋰離子的溶劑化結構;如果添加劑能夠聚集在負極表面,那么對于添加劑在負極表面的反應是有利的;但是能不能發生還原反應,將動力學獲得得的微觀結構進行DFT計算,根據還原電位評價反應可行性。如圖1所示。

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圖1. DFT+MD在SEI膜形成中的應用技術路線

通過MD和DFT結合的方式,明確了鋰離子溶劑化結構的主要成分以及負極表面電解液組分的變化規律,由于不同的溶劑化結構對應不同的還原電位,最終得到不同過電位條件下負極表面平均還原電位的變化規律。

雖然該研究得到了SEI膜形成的主要機理,但是該方法并沒有直接呈現SEI膜形成的過程,以及納米級別的微觀結構。

No.2

DFT定義反應模板>>>

MD過程匹配反應模板

下面我們再看一下利用Materials Studio新版本中的功能Flex和ReactionFinder研究SEI膜的形成。

首先設定一系列反應模板,并對反應能壘與反應熱進行了DFT計算,然后搭建負極/電解液體系,在MD過程中搜索反應模板,并利用蒙特卡洛的方法選擇反應,進而進行虛擬反應。
從而實現SEI膜的生成過程,獲得不同時間段SEI膜的變化情況。模擬體系和模擬結果更加接近真實體系。如圖3所示:
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圖2. 匹配反應模板的動力學過程
所使用的模塊與方法:
Amorphous、Forcite、COMPASSIII、FlexTS、Dmol3、Script-ReactionFinder;
模型要點:
根據反應路徑與機理創建一系列反應模板,反應模板有反應物結構、產物結構,以及通過DFT計算得到的能壘與反應熱;
搭建負極/電解液體系,負極為石墨體系;電解液為LiPF6和EC溶劑;在石墨烯與電解液接觸表面所有C原子上分配總電荷為2e;后續在石墨表面1 nm區域作為SEI膜的形成區域;如圖3a綠色區域顯示;
這樣在動力學的過程中如果體系中出現了反應模板中的反應物結構,那么通過腳本直接把該結構轉變成反應物結構。
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圖3. a:石墨負極與電解液體系;b:反應模板
為了讓DFT和MD結合,設計了下面的技術路線圖,如圖4所示;
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圖4. SEI形成過程技術路線
搭建負極/電解液模型,創建反應模板,計算反應能壘;
根據反應模板中的結構,在負極/電解液體系中動力學過程中搜索反應結構,如果沒有搜索到進行動力學更新結構,重新搜索;
如果搜索到反應結構,利用蒙特卡洛方法對反應進行選擇;
被選中的反應結構轉變成生成物結構,同時,該結構的力場參數也進行調整;
對新結構進行幾何優化與動力學;
達到循環次數,反應終止。
根據溶劑反應機理,設定了下面8個反應模板,如圖5所示:并且利用FlexTS和Dmol3計算了反應反應熱和反應能壘;
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圖5. 反應模板
在匹配到反應結構后,需要進行動力學對結構弛豫,但是對于化學反應來說,反應能壘將會影響反應速率,如果動力學時間時間很短,那么可能會導致反應的不徹底;動力學時間過長,可能遺漏一些最先出現的反應;作者根據反應能壘設定了一個動態的模擬時間,如圖通過和恒定時間進行對比,模擬效率得到很大的提示。
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圖6. 模擬時間與反應能壘關系
通過動力學的計算,得到了不同時間段的SEI膜結構,可以看到SEI膜最先從負極表面生成,然后向電解液中擴展,不同顏色表示不同的產物結構。如圖7所示:
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圖7. SEI膜形成過程
通過以上的研究,得到了SEI膜形成的過程,其成分主要有DFT進行計算,計算精度能夠得到很好的保障。并且在最終的結構達到近10 nm,與實際體系更加接近。

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