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【純計算】PCCP:二維MX2Y4體系—超高的載流子輸運和優異的析氫反應性能

【純計算】PCCP:二維MX2Y4體系—超高的載流子輸運和優異的析氫反應性能
研究背景
研究二維材料的析氫反應(HER)能力對緩解能量問題具有重要意義。在HER中使用二維材料作為光催化劑是一種流行的策略,因其具有較大的比表面積可以為水的中間體提供更多的活性位點。南京林業大學任凱和西安交通大學Huasong Qin等人通過第一性原理計算,系統地探討了MX2Y4(M = Cr、Hf、Mo、Ti、W、Zr;X = Si、Ge;Y = N、P、As)單分子層的力學、電子和催化性能。希望其在光催化、電催化和光伏器件等領域發揮應用潛力。
計算方法
本文采用VASP軟件包對其催化性能及電子性質進行理論研究,計算基于廣義梯度近似(GGA)下的PBE泛函計算電子交換相關性,通過HSE06泛函計算能帶,為了避免層間的相互作用,將Z方向的真空空間設置為25 ?。截斷能設置為400 eV,將能量和最大力的收斂公差分別設為1× 10-5 eV/atom和0.02 eV·?-1
結果與討論
作者選擇了9個典型的MX2Y4單層作為研究體系,首先對具有三明治狀結構的六角形MX2Y4單層進行了優化,如圖1所示。其中MoSi2As4單分子層的最大晶格常數為3.618 ?。計算得到的這些體系的鍵長和厚度也與之前的結果一致。用從頭算分子動力學(AIMD)模擬,發現MX2Y4在室溫下表現出其優異的熱穩定性。
【純計算】PCCP:二維MX2Y4體系—超高的載流子輸運和優異的析氫反應性能
圖1 晶體結構圖
對上述結構進行力學性能計算,圖2為不同MX2Y4的楊氏模量和泊松比。計算得到的獲得的WSi2N4單層的最大楊氏模量為514 N·m-1,大于石墨烯單層的最大楊氏模量(340 N·m-1)計算得到MoSi2As4單分子膜的最小楊氏模量為165 N·m-1,也大于其他報道的二維材料。同時,在這些MX2Y4中也發現了各向同性的平面內泊松比,其值在0.264 ~ 0.327之間,與MoS2的平面內泊松比相當(約為0.3)。
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圖2 MX2Y4的楊氏模量和泊松比
接下來,進一步研究MX2Y4的應變效應,應力與應變的關系如圖3所示。可以看到,TiSi2N4在拉伸應變為30%的范圍內沒有出現斷裂應變。而CrSi2N4、HfSi2N4、MoGe2N4、MoSi2As4、MoSi2N4、MoSi2P4、WSi2N4和ZrSi2N4單分子層的斷裂應變分別為29%、28%、28%、26%、29%、26%、29%和23%,沿x方向強度分別為55 N·m-1、38 N N·m-1、39 N·m-1、17 N·m-1、54 N·m-1、21 N·m-1、57 N·m-1和35 N·m-1。除了MoSi2As4和MoSi2P4外,其他結構表明沿y方向存在明顯的屈服極限。特別是,WSi2N4的最大應變屈服極限約為18%,強度約為55 N·m-1,具有較大的泊松比,具有良好的韌性。
【純計算】PCCP:二維MX2Y4體系—超高的載流子輸運和優異的析氫反應性能
圖4 MX2Y4的應力-應變關系
本文利用HSE06泛函計算MX2Y4的能帶結構,如圖4所示。除MoSi2As4和MoSi2P4單層外,其余均為間接帶隙。MoSi2As4和WSi2As4的帶隙估計分別為1.790 eV和2.048 eV,這與之前的報道一致。HfSi2N4、MoSi2N4、TiSi2N4、WSi2N4和ZrSi2N4具有良好的帶隙(大于1.23 eV),是潛在的水裂解光催化劑,其帶邊位置可誘導析氫反應(HER)和析氧反應更快的發生。
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圖4 MX2Y4的能帶結構
由電子結構得到MX2Y4單層的載流子遷移率(圖5)。顯然,TiSi2N4單層具有高度各向異性載流子遷移率。計算得到的沿y方向的電子遷移率大約是沿x方向的73倍。對于空穴,ZrSi2N4單分子層也是各向異性的,y方向的遷移率是x方向的10倍左右,這解釋了TiSi2N4和ZrSi2N4單分子層在y方向上具有良好的載流子遷移。
此外,HfSi2N4 (x方向)、MoSi2As4 (x和y方向)、MoSi2N4 (x和y方向)、MoSi2P4 (x方向)、TiSi2N4 (x方向)、WSi2N4 (x方向)、CrSi2N4 (x方向)、ZrSi2N4 (y方向)同樣體現出來各向異性的載流子遷移率,可以作為光催化劑。更重要的是,TiSi2N4單分子層中沿y方向的超快電子遷移率被計算為10370 cm2·V -1·s -1,優于最近報道的新型二維材料,在新型電子器件的研發方面有著廣泛的應用前景。
【純計算】PCCP:二維MX2Y4體系—超高的載流子輸運和優異的析氫反應性能
圖5 MX2Y4的電子/空穴在不同方向的載流子遷移率
最后對以上結構的電催化析氫能力進行探究。計算出的MoSi2N4和MoSi2N4單分子層的ΔGH*分別為2.33 eV和2.58 eV。同時,TiSi2N4和ZrSi2N4的吉布斯自由能分別低至0.078 eV和0.035 eV,位于火山曲線峰值附近,因此這些MX2Y4材料都可以作為HER的潛在催化劑。
【純計算】PCCP:二維MX2Y4體系—超高的載流子輸運和優異的析氫反應性能
圖6 MX2Y4的析氫自由能及火山曲線
結論與展望
本文利用第一性原理計算,系統地研究了MoSi2N4新型二維材料的結構、力學和電子特性。在彈性模量、載流子遷移率及HER方面均有著優異的性能規律。這可以為新型二維材料的應用提供良好的理論基礎。
文獻信息
Ren, K., Shu, H., Wang, K., & Qin, H. (2023). Two-dimensional MX2Y4 systems: Ultrahigh carrier transport and excellent hydrogen evolution reaction performances.?Physical Chemistry Chemical Physics.

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