第一作者:蔡麗艷
通訊作者:王雪峰、徐斌、Sebastian Riedel
通訊單位:同濟大學、柏林自由大學
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由主族元素實現的氮氣(N2)的固定和功能化一直很少見。本研究通過激光剝離硅原子與氫氣在氮氣基質中反應,實現了氮氣分子中N≡N三鍵的斷裂。
通過紅外光譜學和量子化學計算,確定了形成的四元雜環H2Si(μ-N)2SiH2、H2SiNN(H2)和HNSiNH復合物。研究發現,兩個SiH2基團與N2的協同作用導致了最終產物H2Si(μ-N)2SiH2的形成。
理論計算表明,硅原子向N2的π*反鍵軌道貢獻電子密度,并從π鍵軌道移除電子密度,導致NN三鍵的斷裂。這項研究可能為氮氣分子的活化和功能化開辟了新的途徑。
圖文導讀
圖1:小分子與硅烯的結合模式。
圖2:在4 K下,激光剝離的硅原子與10% H2/N2混合物共沉積后的反應產物的紅外光譜。
圖3:在4 K下,激光剝離的硅原子與H2、D2和HD在過量固態14N2(15N2)中反應后的紅外光譜,經過第二次λ > 220 nm輻照10分鐘后的結果。
圖4:基于B3LYP/6-311++G(3df,3pd)、CCSD(T)/aug-cc-pVDZ和CCSD(T)/aug-cc-pVTZ方法計算的A、B和C的幾何結構。
圖5:在B3LYP/6-311++G(3df,3pd)水平上計算的B + SiNN → A + N2的反應勢能面。
圖6:在B3LYP/6-311++G(3df,3pd)水平上計算的H2Si + N2 → C和SiNN + H2 → C的反應勢能面。
圖7:H2Si(μ-N)2SiH2的變形密度Δρ(1)–(4)的形狀,對應于ΔEorb(1)-ΔEorb(4)和相關的片段軌道。
總結展望
本研究中,激光剝離硅原子與氫氣反應,在低溫氮氣基質中實現了對氮氣分子N≡N三鍵的活化和斷裂,形成了穩定的四元雜環Si2N2體系。
通過理論計算和實驗數據,揭示了硅原子與N2分子的協同作用機制,為理解氮氣活化提供了新的視角。可能為未來氮氣的功能化和活化提供了新的方法和理論基礎。
文獻信息
標題:N2 cleavage by silylene and formation of H2Si(μ-N)2SiH2
期刊:Nature Communications
DOI:10.1038/s41467-024-48064-z
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