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投稿到接收歷時近1年!武漢大學「國家杰青」團隊,重磅Nature Materials!

成果簡介
互補金屬-氧化物-半導體(complementary metal-oxide-semiconductor)技術的縮小已在電子學上取得了突破,但是更極端的縮小已經撞上了器件性能下降的墻壁。目前,高介電常數、寬禁帶和高隧道質量絕緣子的研制是研究的難點之一。
基于此,武漢大學何軍教授和郭宇錚教授(共同通訊作者)等人報道了利用粒子群優化(PSO)算法和理論計算相結合的方法設計了超薄五氧化二釓(Gd2O5)單晶,并通過范德華(vdW)外延技術合成了二維(2D)Gd2O5單晶,同時具有約25.5的高介電常數和寬帶隙。
得益于層狀超級單體結構和高κ值,2D Gd2O5的等效氧化物厚度(EOT)低至1 nm,即使在5 MV cm-1下也具有約10-4 A cm-2的超低泄漏,幾乎是各種高κ值電介質中所能達到的最佳性能。此外,單晶Gd2O5可通過范德華力與層狀半導體集成,構建了高質量的介電通道接口,從而實現高性能的2D晶體管。在低工作電壓(VDS=0.5 V和VGS=0.4 V)下,所制備的MoS2晶體管具有超過108的高開/關比、接近玻爾茲曼極限的亞閾值擺幅(SS)以及優異的短通道效應(SCE)抗擾度。作者還表明該器件可用于構建具有接近40的高增益和幾納瓦的低功耗的逆變電路。
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相關工作以《High-κ monocrystalline dielectrics for low-power two-dimensional electronics》為題在《Nature Materials》上發表。值得注意的是,本論文從2023年10月23日開始投稿,直到2024年10月8日接收,歷時350天,近1年!
何軍,武漢大學物理科學與技術學院院長,教授/博士生導師,國家杰出青年科學基金獲得者、科技部重大研發計劃首席科學家、中組部“萬人計劃”中青年科技創新領軍人才、科技部中青年科技創新領軍人才,享受國務院特殊津貼專家。
郭宇錚,武漢大學動力與機械學院副院長,工業科學研究院、電氣與自動化學院教授,儲能與新能源系系主任。
圖文解讀
在PSO算法搜索發現結構上,進行從頭算分子動力學模擬,將所提出的結構在2000 K熔化,然后從2000 K退火到300 K,以進一步探索可能的穩定結構。最后,通過第一性原理計算優化確定了形成能為-0.6 eV的兩種晶體結構,即Gd2O3和Gd2O5。通過密度泛函理論(DFT)計算Gd2O3和Gd2O5的能帶結構和態密度(DOS),發現Gd2O5具有比Gd2O3更寬的帶隙。
由于其氧含量較低,Gd2O3主要表現為Gd原子的導帶貢獻,而在Gd2O5中兩種元素的導帶貢獻更為平衡。DFT計算表明,Gd2O3和Gd2O5兩種晶體的介電常數的電子貢獻是相似的,但Gd2O5的離子貢獻遠高于電貢獻。因此,Gd2O5晶體可合理地同時具有較寬的帶隙和較高的介電常數。
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圖1.理論計算
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圖2. 2D Gd2O5的生長與表征
約32 nm Gd2O5的有效介電常數(εeff)在50 kHz時約為25.5,隨著外加頻率的增加逐漸減小。對比大多數晶體介質(h-BN、Bi2SeO5和Sb2O3),Gd2O5具有更高的εeff和更寬的帶隙。同時,Gd2O5隨著厚度的減小,εeff呈下降趨勢。不同厚度Gd2O5的垂直MIM器件的擊穿場強(EBD)范圍為6.9-15.7 MV cm-1,證明了2D Gd2O5作為電介質的可靠性。對于5.2 nm厚的Gd2O5(EOT約1 nm),即使在施加5 MV cm-1的電場下,約10-4 A cm-2的漏電流密度也小于低功率極限(1.5×10-2 A cm-2)。
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圖3. 2D Gd2O5的介電和鐵電性能
將Gd2O5單晶與2D半導體集成,作者利用范德華力實現頂門控晶體管。晶體管通道區域的STEM橫截面圖像和EDS映射,vdW間隙約為4.1 ?,界面干凈,沒有任何結構紊亂。光學顯微鏡(OM)和原子力顯微鏡(AFM)顯示,利用8.5 nm厚Gd2O5介質和石墨頂電極制備的MoS2場效應晶體管(FET)在0.4至-0.6 V的超窄VGS范圍內具有高達約108的高開/關比和61.5 mV dec-1的低SS。
對于多個頂門控MoS2晶體管的SS和開/關比,大多數晶體管的開/關比超過108,接近玻爾茲曼極限SS。由兩個頂門控MoS2 FET串聯組成的逆變器具有接近40的高增益和幾納瓦的低功耗,可與已報道的大多數MoS2逆變器媲美。此外,作者還制作了以Gd2O5為介質的短溝道MoS2 FET,具有優異的傳輸和輸出特性(Lch≈35 nm,tox=8.7 nm),實現了107的高開/關比和75 mV dec-1的陡SS,表明對SCEs具有有效的屏蔽作用。
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圖4.用于高性能2D晶體管的Gd2O5電介質
文獻信息
High-κ monocrystalline dielectrics for low-power two-dimensional electronics. Nature Materials, 2024,

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