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研究水!廈大「國家杰青」/「國家優(yōu)青」聯(lián)手,新發(fā)Nature子刊!

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成果簡介
膜電極組件(MEA)在多碳(C2+)化合物的電催化CO2還原反應(yīng)(CO2RR)中具有廣闊的應(yīng)用前景。在無陰極的MEA電解槽中,水管理是至關(guān)重要的,但很少有研究闡明陰極共進水是否能促進C2+的形成。
廈門大學(xué)王野教授、程俊教授、謝順吉教授,中國科學(xué)院上海高等研究院姜政研究員等人發(fā)現(xiàn)了一種合適的納米復(fù)合電催化劑,具有豐富的Cu2O-Cu0界面,在實現(xiàn)C2+形成的水促進作用方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用,在MEA中實現(xiàn)了1.0 A cm-2的電流密度和19%的單次C2+產(chǎn)率和80%的C2+法拉第效率。原位表征證實了在安培電流密度下CO2RR過程中Cu+與Cu0共存。研究表明,Cu+通過促進吸附CO和CHO的形成來促進水的活化和C-C耦合。這項工作提供了一種策略,通過結(jié)合水管理和電催化劑設(shè)計,在工業(yè)相關(guān)的MEA中促進CO2RR、生成C2+化合物。
相關(guān)工作以《Roles of copper(I) in water-promoted CO2 electrolysis to multi-carbon compounds》為題在《Nature Communications》上發(fā)表論文。
圖文導(dǎo)讀
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圖1 共進水對MEA電解槽CO2RR的影響
本文采用溶劑熱-電還原法,由CuO-Cu2O復(fù)合前驅(qū)體生成的Cu2O與Cu0混合相組成Cu2O-Cu0納米復(fù)合材料。
在MEA電解槽(圖1a)中,采用IrOx作為陽極催化劑,0.10 M KHCO3作為析氧反應(yīng)側(cè)的陽極液,評估了全電解池的CO2RR性能。在MEA中,陰極反應(yīng)所需的H2O分子可以來自穿過陰離子交換膜的陽極液,也可以通過H2O蒸汽發(fā)生器添加到CO2流中。在陰極共進料H2O的情況下,MEA入口的H2O分壓P(H2O)保持在<3.1 kPa,以保證H2O蒸氣不會在電極孔隙中凝結(jié)。研究發(fā)現(xiàn),合適的P(H2O)、共投H2O對Cu2O-Cu0催化劑有顯著的促進作用。當P(H2O)從0增加到2.7 kPa時,電流密度和C2+的FE均有所增加,并抑制了HER,但過高的P(H2O)(3.0 kPa)對CO2RR不利,這可能是由于阻礙了CO2的吸附和活化(圖1b)。
在Cu2O-Cu0催化劑上,電壓為3.8 V, P(H2O)為2.7 kPa,電流密度為1.0 A cm-2,C2+的FE為80%(圖1b、c),同時C2+的生成速率達到2.5 mmol cm-2 h-1。然而,在Cu0催化劑上,共進料水對C2+形成的積極影響沒有觀察到(圖1d)。在大多數(shù)電位下,H2O的存在使Cu的C2+化合物的FE降低,而H2的FE增加。
在Cu2O-Cu0和Cu0兩種催化劑上,在較高的電位下共進料,在一定程度上提高了水的消耗速率(包括CO2RR和HER)。可以觀察到,兩種催化劑共進料后,CO2RR和HER的耗水比變化有顯著差異,記為f(CO2RR)/f(HER)。無論是否存在共進料H2O,f(CO2RR)/f(HER)在Cu2O-Cu0上始終大于在Cu0上(圖1e)。在Cu0催化劑上,在不同的電位下,共進料H2O存在和不存在時,f(CO2RR)/f(HER)值幾乎相同。另一方面,有趣的是,在每個電位下,共進料H2O顯著提高了Cu2O-Cu0上的f(CO2RR)/f(HER)(圖1e),這表明共進料H2O有利于CO2RR,而不利于該催化劑上的HER。
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圖2 MEA電解槽的CO2RR性能
Cu2O-Cu0催化劑的優(yōu)異性能還體現(xiàn)在單道CO2轉(zhuǎn)化率、C2+選擇性和C2+產(chǎn)率上,這是與熱催化CO2加氫比較的直接參數(shù),對實際應(yīng)用至關(guān)重要。在1.0 A cm-2的電流密度下,C2H4、C2H5OH、CH3COO和C3H7OH等C2+化合物的單次收率為19%,CO2轉(zhuǎn)化率為23%,C2+選擇性為83%,CO2流速為40 mL min-1(圖2a)。
Cu2O-Cu0催化劑也非常穩(wěn)定,在250 mA cm-2的電流密度下,其性能可以保持至少350小時(圖2b),比迄今為止報道的其他催化劑在工業(yè)相關(guān)電流密度(≥200 mA cm-2)下表現(xiàn)得更好。進一步與一些頂級的基于MEA的CO2RR體系進行比較表明,共進料H2O的Cu2O-Cu0催化劑可以同時獲得高電流密度和高C2+的FE,從而實現(xiàn)創(chuàng)紀錄的2.5 mmol cm-2 h-1的C2+生成速率(圖2c)。在Cu2O-Cu0催化劑上,C2+化合物的能量轉(zhuǎn)換效率,即C2+產(chǎn)物中儲存的化學(xué)能與輸入的電能之比,也遠高于Cu0催化劑(圖2d)。
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圖3 Cu2O-Cu0催化劑的表征
作者進行原位XRD測量,以監(jiān)測CO2RR過程中活性相的演變。在開路電位(OCP)下,納米復(fù)合催化劑的前驅(qū)體由混合的Cu2O和CuO相組成(圖3a)。在3.0~3.8 V范圍內(nèi),CO2RR后,CuO的XRD峰消失,金屬Cu的XRD峰出現(xiàn)并占據(jù)主導(dǎo)地位。隨著電位的增加,可分配給Cu2O的峰變?nèi)酰?.8 V時仍然可以觀察到,這相當于約1 A cm-2的電流密度。在3.8 V下CO2RR作用5 h后仍可觀察到Cu2O的存在,表明在整個CO2RR過程中都存在Cu2O。
SEM圖像顯示,電還原后的Cu2O-Cu0納米復(fù)合材料具有芝麻球狀形貌,尺寸在150~200 nm之間(圖3b)。Cu2O-Cu0催化劑的HRTEM圖像顯示,其晶面間距分別為0.247 nm和0.208 nm,這可以分別歸因于Cu2O(111)和Cu(111)面(圖3c)。
隨后,進行了原位XAS研究。XANES結(jié)果表明,當電位從3.0 V增加到3.8 V時,Cu2O-Cu0納米復(fù)合催化劑的Cu的K邊緣向Cu箔的K邊緣略微移動,但即使在3.8 V的CO2RR作用5 h后,Cu的K邊緣仍介于Cu箔和Cu2O之間(圖3d),表明銅的平均氧化態(tài)在0到+1之間。在相同的電解條件下,Cu0催化劑的Cu的K邊與Cu箔幾乎相同,證實了Cu在該催化劑中處于金屬態(tài)。這些結(jié)果證實了在工作條件下,納米復(fù)合催化劑由Cu+-O和Cu0兩種結(jié)構(gòu)組成。
作者進一步進行了原位拉曼光譜研究。在電位為2.6-3.8 V的CO2RR過程中,可以清楚地觀察到在410、520、620和710 cm-1處分別由CuOx/OHy、Cu2O T2g、Cu2O T1u和Cu-OH組成的四個拉曼峰(圖3e)。這些拉曼峰在3.8 V下反應(yīng)5 h后仍清晰可見。另一方面,Cu0催化劑的原位拉曼光譜在~710 cm-1處只觀察到一個非常弱的拉曼峰。Cu2O在520和620 cm-1處的拉曼峰的存在證明了在反應(yīng)條件下Cu2O-Cu0表面上Cu+位點的穩(wěn)定存在。
作者提出了銅的還原態(tài)和氧化態(tài)之間的動態(tài)交換機制(圖3f)。在CO2RR過程中,陰極上可以生成OH,OH有利于Cu0氧化成Cu+。在陰極中檢測到OH和少量O2,它們可能通過H218O的氧化從陽極穿過膜,被認為是通過再氧化產(chǎn)生Cu+的原因。作者推測,由于獨特的芝麻球狀形貌(圖3b),具有粗糙表面的Cu2O-Cu0催化劑上較高的局部OH物種濃度將有利于原位氧化生成Cu+。也就是說,Cu+在工作Cu2O-Cu0催化劑上的穩(wěn)定存在與表面生成的高濃度OH和獨特的催化劑結(jié)構(gòu)有關(guān)。
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圖4 DFT計算
DFT計算表明,CO2分子在Cu(111)上活化為*CO2是一個吸熱反應(yīng),需要1.06 eV的反應(yīng)能量,而在Cu2O-Cu0上的反應(yīng)能量下降到0.12 eV(圖4a)。這可能是由于氧化Cu表面上更有利于能量的CO2活化所致。Bader電荷分析表明,Cu2O-Cu0上Cu2O疇邊緣的Cu原子帶0.7 eV的正電荷,帶正電荷的Cu原子與CO2的O原子之間的強靜電相互作用在很大程度上有利于其吸附(圖4b)。進一步計算了H2O、另一主要反應(yīng)物和質(zhì)子供體對CO2RR對C2+化合物的吸附能,結(jié)果表明H2O在Cu2O-Cu0上的吸附能為-0.58 eV,明顯強于在Cu(111)上的吸附能(圖4c)。
關(guān)于C-C耦合機制,*CO直接二聚化成*OCCO已被廣泛提出。DFT計算表明,Cu(111)和Cu2O-Cu0的直接*CO二聚化反應(yīng)能分別為1.48和0.98 eV(圖4d)。另一方面,在兩個模型表面上,第一步*CO氫化成*CHO,然后*CO和*CHO耦合成*OCCHO是能量上更有利的途徑。特別是在Cu2O-Cu0上,*CO與*CHO和*CO-*CHO耦合的反應(yīng)能分別僅為0.39 eV和0 eV,明顯低于Cu(111)(圖4d)。
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圖5 原位拉曼光譜
Cu2O-Cu0和Cu0催化劑在3000-3800 cm-1范圍內(nèi)O-H伸展模式(νO-H)的拉曼光譜可以在大約3200、3400和3600 cm-1處分成三個峰(圖5a),這可以分別歸因于四配位H鍵(4-HB)水、兩配位H鍵(2-HB)水和弱氫鍵懸垂O-H(弱-HB)水。三個峰的頻率強烈依賴于施加的電位(圖5a),這表明記錄的拉曼信號來自靠近催化劑表面的最初幾個水層。據(jù)報道,水解離的活化能順序為弱-HB水<2-HB水<4-HB水。因此,弱-HB水有利于H2O形成吸附的*H,從而影響后續(xù)的CO2RR性能。
此外,發(fā)現(xiàn)在負施加電位下,弱HB水在Cu2O-Cu0上的拉曼峰出現(xiàn)的波數(shù)相對較低(圖5a),這也表明在工作條件下H2O與Cu2O-Cu0表面之間的相互作用更強。在增加施加電位后,Cu2O-Cu0催化劑的弱HB水在拉曼峰中觀察到更顯著的紅移,表明與Cu0(86 cm-1 V-1)相比,Stark效應(yīng)更大(159 cm-1 V-1)(圖5b)。這進一步證明了Cu2O-Cu0催化劑對H2O的吸附更強。因此,拉曼光譜結(jié)果與DFT計算結(jié)果吻合較好,為Cu2O-Cu0催化劑對H2O分子的強吸附提供了實驗證據(jù)。
本文利用原位拉曼光譜進一步鑒定CO2RR過程中可能的反應(yīng)中間體。在Cu2O-Cu0催化劑上掃描從OCP到-0.4 V時,拉曼峰出現(xiàn)在1140、1340和2080 cm-1處(圖5c),這可以歸因于吸附的CO2物種、OCO物種和吸附的CO物種。吸附的CO2的出現(xiàn)表明CO2在Cu2O-Cu0催化劑上具有良好的活化作用。進一步掃描至-0.5 V時,*CO的峰強度顯著增加(圖5c),表明在工作條件下*CO是主要的反應(yīng)中間體。當電位進一步向負值移動時,*CO的拉曼峰減弱,而*OCCHO的拉曼峰增強,表明*CO發(fā)生了還原,C-C耦合到*OCCHO。在Cu0催化劑上,*CO和*OCCHO的拉曼峰從更負的電位(-0.7 V)出現(xiàn),并且變得明顯變?nèi)酰砻鬟@些物質(zhì)在Cu0上的吸附更弱或濃度更低(圖5d)。
電催化結(jié)果表明,在相應(yīng)的外加電位下,Cu0催化劑的C2+生成速率明顯低于Cu2O-Cu0催化劑。在2090 cm-1處觀察到的CO吸附峰藍移表明CO鍵合更強,CO分子與催化劑之間的相互作用更弱,從而減弱了CO在Cu0上的吸附(圖5d)。與DFT計算結(jié)果一致,這些實驗結(jié)果都證實了Cu2O-Cu0比Cu0具有更高的CO吸附能力。因此,由Cu+-O和Cu0組成的催化劑可以增強H2O和CO2的活化,促進CO的形成和吸附,以及*CHO和*OCCHO的形成,促進C2+化合物的形成。
文獻信息
Roles of copper(I) in water-promoted CO2 electrolysis to multi-carbon compounds,Nature Communications,2024.

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